China Sukses Produksi Chip 5nm Meski Diblokir Teknologi AS

SMIC Capai Terobosan Tanpa Mesin EUV

https://leadnepal.com/ Di tengah tekanan sanksi keras dari Amerika Serikat yang membatasi akses terhadap teknologi semikonduktor mutakhir, China justru berhasil mencetak kemajuan penting dalam industri chip global.

Perusahaan manufaktur semikonduktor terbesar di Tiongkok, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), dikabarkan berhasil memproduksi chip berarsitektur 5 nanometer (nm) tanpa menggunakan mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV) dari Belanda, yang selama ini dianggap esensial untuk fabrikasi chip canggih.

Gunakan Teknologi DUV dan SAQP

Menurut laporan dari GizmoChina, pencapaian SMIC ini dimungkinkan berkat pendekatan teknis yang tidak lazim dan lebih kompleks. Alih-alih menggunakan EUV, SMIC memanfaatkan mesin litografi deep ultraviolet (DUV) yang lebih lawas, dikombinasikan dengan metode Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP).

Meski pendekatan ini lebih mahal, rumit, dan rawan kesalahan, hasilnya terbukti dapat menciptakan chip 5nm yang berfungsi secara optimal.

Perbandingan Teknologi DUV dan EUV

Teknologi litografi DUV dan EUV sama-sama digunakan dalam proses pencetakan pola sirkuit mikro pada wafer silikon dalam industri semikonduktor. Perbedaannya terletak pada panjang gelombang cahaya yang digunakan:

• DUV: menggunakan cahaya dengan panjang gelombang sekitar 193 nm.

• EUV: memakai panjang gelombang yang jauh lebih pendek, sekitar 13,5 nm, sehingga mampu mencetak pola sirkuit lebih halus dan presisi tinggi.

EUV dianggap sebagai standar utama dalam produksi chip modern dengan proses fabrikasi 7nm ke bawah. Namun karena pembatasan dari AS, SMIC harus mencari alternatif melalui proses DUV multi-patterning.

Penjelasan Detail dari Analis William Huo

Analis industri semikonduktor William Huo memaparkan proses teknis pencapaian ini melalui rangkaian unggahan di platform X/Twitter. Ia menjelaskan bahwa SMIC menerapkan teknik multi-patterning ekstrem berbasis DUV untuk mengimitasi kemampuan presisi EUV.

Metode SAQP yang digunakan melibatkan proses litografi dan etsa (etching) berulang kali, dengan tingkat ketelitian tinggi. Teknik ini menuntut kesabaran dan akurasi luar biasa dari tim produksi, mengingat banyaknya tahapan yang harus dilalui.

SMIC Masih dalam Daftar Hitam AS Sejak 2020

Sejak Desember 2020, pemerintah AS memasukkan SMIC ke dalam entity list, yang membatasi akses perusahaan tersebut terhadap teknologi dan peralatan buatan Amerika Serikat. Hal ini mencakup pelarangan penggunaan mesin EUV produksi ASML, perusahaan asal Belanda.

Akibat sanksi ini, SMIC secara teori tidak dapat memproduksi chip di bawah 10nm dengan metode standar. Namun, lewat teknik SAQP berbasis DUV, SMIC kini mampu menembus batasan itu dan memproduksi chip 5nm secara independen.